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Yamato大和 顯微光譜儀測厚儀(OPTM系列)
產(chǎn)品型號(hào):
廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
更新時(shí)間:2025-08-22
訪 問 量:136
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重慶普飛索是一家專業(yè)從事歐美日工業(yè)品進(jìn)出口貿(mào)易公司。在中國設(shè)立多個(gè)營業(yè)點(diǎn),以靈活的經(jīng)營方式,不斷開拓業(yè)務(wù)領(lǐng)域。公司憑借內(nèi)部優(yōu)秀團(tuán)隊(duì),開拓并擁有了成熟的外供應(yīng)鏈渠道、網(wǎng)絡(luò)貿(mào)易渠道、市場信息渠道。我們以價(jià)格優(yōu)勢、快捷穩(wěn)定的貨期和專業(yè)的售前售后服務(wù),取得廣大新老客戶的高度信賴及好評(píng)。
重慶普飛索秉承“勤勞樸實(shí)、止于至善、永續(xù)經(jīng)營、奉獻(xiàn)社會(huì)"的企業(yè)文化和經(jīng)營理念,過去、現(xiàn)在及未來將一直為中國制造業(yè)產(chǎn)業(yè)發(fā)展做出貢獻(xiàn),成為客戶、供應(yīng)商、以及所有相關(guān)人士需要的貿(mào)易公司。
可在1秒內(nèi)測量1nm薄膜的高速、高精度薄膜測厚儀
OPTM是一種可以在微觀區(qū)域高精度分析薄膜厚度和光學(xué)常數(shù)的設(shè)備,測量時(shí)間為1秒,薄膜尺寸為1nm~92μm。 它可以以無損、非接觸的方式測量各種薄膜、晶片、光學(xué)材料和其他涂層的厚度和多層涂層。 它還配備了軟件,即使是初學(xué)者也能輕松分析光學(xué)常數(shù)。
膜厚測量的原理是光學(xué)干涉測量法,其中從近紫外到近紅外測量源發(fā)出的光通過物鏡照射到樣品的微觀區(qū)域。 反射光通過光譜儀進(jìn)行光譜分析并到達(dá)探測器。

例如,當(dāng)測量基板上的涂層薄膜時(shí),從目標(biāo)樣品上方入射的光會(huì)反射到薄膜表面(圖中的R1)。 此外,穿透薄膜的光在基板和膜界面處反射(圖中的R2)。 這時(shí),可以測量由于光路差引起的相移(相位差)引起的光學(xué)干涉現(xiàn)象,并根據(jù)得到的反射光譜和折射率計(jì)算出薄膜厚度。

反射率光譜根據(jù)薄膜厚度的不同而有很大差異。 薄膜厚度可以根據(jù)薄膜類型使用分析算法計(jì)算,例如最小二乘法。 此外,還可以確定折射率(n)和衰減系數(shù)(k)等光學(xué)常數(shù)。

?通過反射物鏡實(shí)現(xiàn)透明基板的高精度測量 通過采用
反射物鏡,可以去除薄膜和玻璃等透明樣品背面的反射,并可以高精度地測量薄膜厚度。

?通過紫外光源實(shí)現(xiàn)的紫外薄膜和通過近紅外光源實(shí)現(xiàn)的彩色樣品的測量紫外反射光譜對(duì)于測量約 1nm 的紫外薄膜是有效的,因?yàn)榕c可見光區(qū)域相比,薄膜厚度變化差異很大。
此外,彩色濾光片等在可見光范圍內(nèi)吸收性強(qiáng)的彩色樣品在近紅外區(qū)域幾乎是透明的,因此在近紅外范圍內(nèi)進(jìn)行測量是有效的。

?微觀區(qū)域的目標(biāo)圖案和零件的測量通過
同時(shí)顯示樣品圖像和被測光捕獲部分,可以確認(rèn)準(zhǔn)確的零件。 還可以對(duì)小至 3Φμm(可選)的光斑直徑進(jìn)行顯微測量。

?帶自動(dòng)XY平臺(tái)的高速多點(diǎn)測量OPTM-A系列
配備了自動(dòng)XY平臺(tái),可以對(duì)薄膜厚度進(jìn)行面內(nèi)映射測量。 高速自動(dòng)對(duì)焦功能允許在不到1分鐘的時(shí)間內(nèi)測量晶圓平面內(nèi)25個(gè)點(diǎn)的薄膜厚度。

?針對(duì)各種薄膜類型的
分析算法薄膜厚度可以通過根據(jù)薄膜類型的分析算法確定。通過根據(jù)薄膜類型選擇最合適的算法,例如最小二乘法、優(yōu)化方法、周期分析(FFT 方法)和 PV(峰值-巴雷法),可以進(jìn)行高精度的薄膜厚度分析。

宏功能可自定義測量序列 測量順序可自定義,如
自動(dòng)對(duì)焦、XY移動(dòng)、樣品測量、分析等。

?使用梯度模型對(duì)薄膜進(jìn)行結(jié)構(gòu)分析:在單層ITO薄膜中可以發(fā)現(xiàn)退火在厚度方向上的光學(xué)常數(shù)(折射率(n)和衰減系數(shù)(k))的差異。

?考慮表面粗糙度的膜厚分析:如果表面有粗糙度層,則使用有效介質(zhì)近似法對(duì)粗糙度層進(jìn)行建模和評(píng)估。

?超薄膜的NK分析:由于100nm以下薄膜的厚度測量結(jié)果存在差異,傳統(tǒng)的反射光譜方法可能難以分析。 OPTM需要通過分析具有不同膜厚水平的三個(gè)樣品來獲得準(zhǔn)確的膜厚。 (多點(diǎn)分析法)。

- SiO2 SiN 膜厚的測量:為了絕緣膜(SiO2(二氧化硅)和 SiN(氮化硅))的性能,需要測量這些膜厚以隔離半導(dǎo)體晶體管,并用于精確的過程控制。
- 彩色抗蝕劑(RGB)的測量:如果彩色濾光片的彩色抗蝕劑厚度不恒定,會(huì)造成圖案變形和顏色變化,因此需要管理膜厚值。
- 硬涂層層的膜厚測量:使用高性能薄膜的產(chǎn)品普遍受歡迎,根據(jù)應(yīng)用的不同,可能需要在薄膜表面涂上具有抗摩擦、抗沖擊、耐熱和耐化學(xué)腐蝕的保護(hù)膜。 通常使用硬涂層薄膜作為保護(hù)膜層。這種厚度不能起到保護(hù)膜的作用,會(huì)導(dǎo)致薄膜出現(xiàn)雪橇,并導(dǎo)致外觀不均勻和變形,因此需要管理膜厚值。
?使用界面系數(shù)測量粗糙基板上的膜厚:對(duì)于基板表面非鏡面反射的粗糙度大的樣品,測量的光會(huì)因散射而減少,并且測得的反射率低于實(shí)際值。通過使用界面系數(shù)來考慮基板表面反射率的降低,可以測量粗糙基板上薄膜的膜厚值。
?DLC涂層厚度的測量:DLC(類金剛石碳)是一種非晶態(tài)碳材料。 由于其高硬度、低摩擦系數(shù)、耐磨性、電絕緣性、高阻隔性、表面改性以及提高與其他材料的親和力等特性,它被用于多種應(yīng)用。通過改變測量波長范圍,可以測量從超薄膜到超厚薄膜的各種薄膜厚度。此外,通過采用顯微鏡光學(xué)系統(tǒng),可以實(shí)際測量鉆頭和軸等形狀的樣品,而不是監(jiān)測樣品。
| 光源波長 | 涂層厚度測量范圍*1 | 自動(dòng)XY載物臺(tái)型 | 固定框架類型 | 嵌入式頭型 |
| 230~800 納米 | 1nm~35 μm | OPTM-A1型 | OPTM-F1型 | OPTM-H1型 |
| 360~1100 納米 | 7nm~49 μm | OPTM-A2型 | OPTM-F2型 | OPTM-H2型 |
| 900~1600 納米 | 16nm~92 μm | OPTM-A3型 | OPTM-F3型 | OPTM-H3型 |
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